imec открывает новую «чистую комнату» для освоения техпроцессов с нормами менее 7 нм

Крупнейший в мире независимый исследовательский центр — бельгийский imec — открыл на днях новую «чистую комнату» для освоения техпроцессов с нормами менее 7 нм. В «чистых комнатах» находится литографическое оборудование для переноса изображения с фотошаблонов на полупроводниковые пластины. Новая «чистая комната» imec вместила линии для обработки 300-мм кремниевых пластин — наибольшего из имеющихся сегодня в ходу типоразмеров.

imec открывает новую «чистую комнату» для освоения техпроцессов с нормами менее 7 нм

Здание imec с новой «чистой комнатой» (imec )

Общая площадь нового помещения составила 4000 квадратных метров. На строительство здания ушло 20 месяцев и свыше одного миллиарда евро. Тем самым общая площадь «чистых комнат» imec достигла внушительного числа 12 000 квадратных метров. Можно ожидать, что новые линии для освоения техпроцессов с нормами менее 7 нм опираются на EUV-оборудование компании ASML. В пресс-релизе imec об этом ничего нет, но сообщается, что новые линии используют опытные сканеры ранних (альфа и бета) версий. Центр imec, кстати, уже имеет на руках опытный кремний с 5-нм чипами.

imec открывает новую «чистую комнату» для освоения техпроцессов с нормами менее 7 нм

Пример сканера компании ASML (ASML)

Новые линии дополнят экспериментальные и коммерческие линии imec для выпуска полупроводников с лейблом «Made in Europe». Кроме перспективных исследований центр imec занимается обслуживанием коммерческих заказов на проектирование и производство микросхем для больших и маленьких европейских компаний. В активе центра имеются опытные линии по выпуску биоэлектроники, нейроэлектроники, беспроводных чипов, солнечных панелей, кремниевой фотоники на основе GaN-on-Si (нитрид галлия на кремнии) и MEMS-схем (микроэлектромеханические). Новые линии в новой «чистой комнате» дополнят этот список возможностью выпускать чипы с размером элементов длиной в считанные единицы атомов.

Источник

Добавить комментарий

Ваш e-mail не будет опубликован. Обязательные поля помечены *